Repozitorij Univerze v Novi Gorici

Izpis gradiva
A+ | A- | SLO | ENG

Naslov:CVD Growth of Molybdenum Diselenide Surface Structures with Tailored Morphology
Avtorji:Sial, M. Naeem (Avtor)
Muhammad, Usman (Avtor)
Zheng, Binjie (Avtor)
Yu, Yanan (Avtor)
Mavrič, Andraž (Avtor)
Qing, Fangzhu (Avtor)
Valant, Matjaž (Avtor)
Wang, Zhiming M. (Avtor)
Datoteke:Gradivo nima datotek. Gradivo je morda fizično dosegljivo v knjižnici fakultete, zalogo lahko preverite v COBISS-u. Povezava se odpre v novem oknu
Jezik:Angleški jezik
Vrsta gradiva:Delo ni kategorizirano (r6)
Tipologija:1.01 - Izvirni znanstveni članek
Organizacija:UNG - Univerza v Novi Gorici
Opis:Controllable atmospheric pressure CVD has been optimized to grow transition metal dichalcogenide MoSe2 with tunable morphology at 750 °C on a silicon substrate with a native oxide layer of 250 nm. Utilizing tetrapotassium perylene-3,4,9,10-tetracarboxylate (PTAS) as a seed promoter and varying the vertical distance between the substrate and the precursor MoO3, different morphologies of MoSe2 were achieved, including 2D triangles, hexagons, 3D pyramids and vertically aligned MoSe2 sheets. We find that the shape of MoSe2 is highly dependent upon the distance h between the substrate and the precursor. The change in the morphology is attributed to the confinement of vapor (MoO3 and Se) precursors and their concentrations due to the change in h. These results are helpful in improving our understanding about the factors which influence the morphology (shape evolution) and also the continuous growth of MoSe2 films.
Ključne besede:Transition metal dichalcogenides, 2D materials, Seed promotor, Chemical vapor deposition, Molybdenum diselenide
Leto izida:2018
Št. strani:4867-4874
Številčenje:33, 20
COBISS_ID:5190139  Povezava se odpre v novem oknu
URN:URN:SI:UNG:REP:YHCIHRZQ
DOI:10.1039/C8CE00917A Povezava se odpre v novem oknu
Licenca:CC BY-NC-ND 4.0
To delo je dosegljivo pod licenco Creative Commons Priznanje avtorstva-Nekomercialno-Brez predelav 4.0 Mednarodna
Število ogledov:1260
Število prenosov:0
Metapodatki:XML RDF-CHPDL DC-XML DC-RDF
Področja:Gradivo ni uvrščeno v področja.
:
  
Skupna ocena:(0 glasov)
Vaša ocena:Ocenjevanje je dovoljeno samo prijavljenim uporabnikom.

Postavite miškin kazalec na naslov za izpis povzetka. Klik na naslov izpiše podrobnosti ali sproži prenos.

Gradivo je del revije

Naslov:CrystEngComm
Skrajšan naslov:CrystEngComm
Založnik:Royal Society of Chemistry
ISSN:1466-8033
Leto izida:2018

Nazaj