Plasma-enhanced ALD deposition of mixed CoNiO[sub]x protective layer for Ta[sub]3N[sub]5 water splitting photoanode

Izpis gradiva
A+ | A- | | SLO | ENG

Naslov:	Plasma-enhanced ALD deposition of mixed CoNiO[sub]x protective layer for Ta[sub]3N[sub]5 water splitting photoanode
Avtorji:	ID Pastukhova, Nadiia (Avtor) ID Li, Yanbo (Avtor)
Datoteke:	https://ecs.confex.com/ecs/prime2020/meetingapp.cgi/Paper/138996
Jezik:	Angleški jezik
Vrsta gradiva:	Neznano
Tipologija:	1.12 - Objavljeni povzetek znanstvenega prispevka na konferenci
Organizacija:	UNG - Univerza v Novi Gorici
Ključne besede:	photoelectrochemical water splitting, light-responsive photoelectrodes, nickel oxides, cobalt oxides
Leto izida:	2020
PID:	20.500.12556/RUNG-5918
COBISS.SI-ID:	35479043
UDK:	53
NUK URN:	URN:SI:UNG:REP:EREFJE6M
Datum objave v RUNG:	03.11.2020
Število ogledov:	3981
Število prenosov:	68
Metapodatki:
:	PASTUKHOVA, Nadiia in LI, Yanbo, 2020, Plasma-enhanced ALD deposition of mixed CoNiO[sub]x protective layer for Ta[sub]3N[sub]5 water splitting photoanode. V : PRiME 2020 [na spletu]. Objavljeni povzetek znanstvenega prispevka na konferenci. Pennington. 2020. [Dostopano 8 april 2025]. Pridobljeno s: https://ecs.confex.com/ecs/prime2020/meetingapp.cgi/Paper/138996 Kopiraj citat