Repozitorij Univerze v Novi Gorici

Izpis gradiva
A+ | A- | Pomoč | SLO | ENG

Naslov:Ageing effects on electrical resistivity of Nb-doped TiO2 thin films deposited at a high rate by reactive DC magnetron sputtering
Avtorji:ID Valant, Matjaž, UNG (Avtor)
ID Gardonio, Sandra, UNG (Avtor)
ID Fanetti, Mattia, UNG (Avtor), et al.
Datoteke: Gradivo nima datotek, ki so prostodostopne za javnost. Gradivo je morda fizično dosegljivo v knjižnici fakultete, zalogo lahko preverite v COBISS-u. Povezava se odpre v novem oknu
Jezik:Angleški jezik
Vrsta gradiva:Delo ni kategorizirano
Tipologija:1.01 - Izvirni znanstveni članek
Organizacija:UNG - Univerza v Novi Gorici
Ključne besede:električna upornost, tanki filmi TiO2, Staranje materiala
Verzija publikacije:Objavljena publikacija
Leto izida:2018
Št. strani:9
Številčenje:455
PID:20.500.12556/RUNG-4050-77cc7f2a-f54b-16c2-bf07-ead03088b001 Novo okno
COBISS.SI-ID:5204475 Novo okno
NUK URN:URN:SI:UNG:REP:O4KR6ACG
Datum objave v RUNG:03.09.2018
Število ogledov:3682
Število prenosov:0
Metapodatki:XML RDF-CHPDL DC-XML DC-RDF
:
Kopiraj citat
  
Skupna ocena:(0 glasov)
Vaša ocena:Ocenjevanje je dovoljeno samo prijavljenim uporabnikom.
Objavi na:Bookmark and Share


Postavite miškin kazalec na naslov za izpis povzetka. Klik na naslov izpiše podrobnosti ali sproži prenos.

Gradivo je del revije

Naslov:Applied Surface Science
Leto izida:2018

Licence

Licenca:CC BY-NC-ND 4.0, Creative Commons Priznanje avtorstva-Nekomercialno-Brez predelav 4.0 Mednarodna
Povezava:http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/4.0/deed.sl
Opis:Najbolj omejujoča licenca Creative Commons. Uporabniki lahko prenesejo in delijo delo v nekomercialne namene in ga ne smejo uporabiti za nobene druge namene.
Začetek licenciranja:03.09.2018

Nazaj