Izpis gradiva

A+ | A- | | SLO | ENG

Naslov: Plasma-enhanced ALD deposition of mixed CoNiO[sub]x protective layer for Ta[sub]3N[sub]5 water splitting photoanode Avtorji: ID Pastukhova, Nadiia (Avtor) ID Li, Yanbo (Avtor) Datoteke: https://ecs.confex.com/ecs/prime2020/meetingapp.cgi/Paper/138996   Jezik: Angleški jezik Vrsta gradiva: Neznano Tipologija: 1.12 - Objavljeni povzetek znanstvenega prispevka na konferenci Organizacija: UNG - Univerza v Novi Gorici Ključne besede: photoelectrochemical water splitting, light-responsive photoelectrodes, nickel oxides, cobalt oxides Leto izida: 2020 PID: 20.500.12556/RUNG-5918  COBISS.SI-ID: 35479043  UDK: 53 NUK URN: URN:SI:UNG:REP:EREFJE6M Datum objave v RUNG: 03.11.2020 Število ogledov: 3517 Število prenosov: 67 Metapodatki:    Citiraj gradivo Navadno besedilo BibTeX EndNote XML EndNote/Refer RIS ABNT ACM Ref AMA APA Chicago 17th Author-Date Harvard IEEE ISO 690 MLA Vancouver : Kopiraj citat

Skupna ocena: (0 glasov) Vaša ocena: Ocenjevanje je dovoljeno samo prijavljenim uporabnikom. Objavi na: Postavite miškin kazalec na naslov za izpis povzetka. Klik na naslov izpiše podrobnosti ali sproži prenos.

Gradivo je del monografije

Naslov:	PRiME 2020 : October 4-9 2020
Kraj izida:	Pennington
Založnik:	Electrochemical Society
Leto izida:	2020
COBISS.SI-ID:	35478275

Nazaj